Министерство промышленности и торговли Российской Федерации разместило государственный заказ на сумму 390 миллионов рублей на разработку и производство опытной партии отечественных фоторезистов — светочувствительных материалов, используемых в фотолитографических процессах при изготовлении микросхем. Проект реализуется в рамках госпрограммы «Развитие электронного машиностроения до 2030 года» и направлен на преодоление зависимости от импортных поставок, которые были существенно сокращены после введения санкционных ограничений.

Целью разработки является создание фоторезистов для технологических норм 310–440 нанометров. Как поясняет независимый аналитик Алексей Бойко, этот диапазон позволяет производить микроэлектромеханические системы (МЭМС), силовую электронику и базовые контроллеры, которые широко применяются в автомобильной, авиационной промышленности и бытовой технике. Такие компоненты не требуют сверхвысокой плотности транзисторов, как современные процессоры, но критически важны для обеспечения технологического суверенитета в стратегических отраслях.

До введения санкций российская промышленность закупала фоторезисты у ведущих мировых производителей: японских компаний Fujifilm Electronics, JSR и Shin Etsu Chemical, американской DuPont, итальянской Elga Europe, южнокорейской Kolon Industries и китайской Chang Chun Chemical. В настоящее время отрасли приходится использовать остатки прежних запасов, одновременно активизируя собственные разработки.

Эксперты отмечают, что выделенных 390 миллионов рублей достаточно для создания опытных образцов и проведения лабораторных испытаний, но недостаточно для организации полноценного серийного производства. По оценкам аналитиков, запуск промышленного выпуска одного типа фоторезиста с полной технологической цепочкой потребует инвестиций в размере 1,5–5 миллиардов рублей.

Параллельно с проектом Минпромторга ведутся другие инициативы в области импортозамещения микроэлектронных материалов. Например, НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ, входит в ГК «Элемент») успешно апробировал на «Микроне» разработанный фоторезист для технологических норм 90 нанометров.

Программа развития электронного машиностроения сталкивается с проблемой недофинансирования: в 2025 году на нее было выделено 15,7 миллиарда рублей вместо запланированных 40 миллиардов. На 2026 год запланировано 30 миллиардов рублей, на 2027 и 2028 годы — по 25 миллиардов ежегодно. Успех разработки отечественных фоторезистов станет важным шагом к созданию замкнутого технологического цикла в российской микроэлектронике.